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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆打造厂处于华北中北部,大部分种植加工8寸大光电器件晶圆,单日工业废水产生量约800吨。考虑到种植加工流程中选择过量氢氧化钠通过晶圆蚀刻,形成工业废底层的水中氟化物质量浓度高达hg200-300mg/L,远超中国产生规则(10mg/L下面)。 污水基本成分及主要来源 工业废水通常源于这几个方面: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高有机废气浓度氟化物(HF)、盐酸及一些高价属 物理机械装备打蜡 (CMP)废水处理方法 :含納米级硅颗粒剂、有机肥料络合剂 机 清洁工作电镀废水 :含异丙醇、挥发酚等无机物 治理生产技术具体步骤 主要采用"药剂学析出+混疑析出+进一步筛选"四级处置系统的: 二级加工处理 :污泥脱水氯化钙和氢硫化钙,养成氟化钙悠长岁月中,氟化物我们要除率达85% 二次元进行处理 :加上PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),快速清理胶体溶液态水排放物 三级职业资格证书加工处理 :能够多物质脱水器和化学活化炭物理吸附,有水出氟化物氧浓度动态平衡在8mg/L下面 关键点系统收录:pH会自动调节器系统、斜管悠长岁月中池、板框污泥处理压滤机(污泥处理脱干)。 以后作用 产品工作5年监测方案数据表格展现: 氟化物平均水平溶度:7.2mg/L(不高于国家的标准) COD除掉率:92% 活性污泥含水量率:≤65% 年收废氟化钙副厂品约150吨,构建的综合充分利用充分利用

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