某半导体行业存储芯片制造技术厂在晶圆手工加工时中，使用的硅烷采取硅本质繁殖，氮氧化合物洗條塔冒出高浓硫酸浓度含硅污废水 治理工艺。污废水 治理工艺还具有pH动荡大（2-11）、硅含碳量高的显著特点，传统文化治理办法易冒出硅垢堵塞过事情。 工业废水成份及原因 生产废水主要是营养成分为： 溶解性性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 氢氧化物钠/氢氧化物钠 ：干洗剂塔腐蚀性干洗剂液留 小粒硅 ：nm级SiO₂溶液 痕量砷 ：原辅材料硫氰酸盐带往 除理施工工艺步骤 去创新通过"两极中合+膜筛选+蒸发器成果"艺： 两级与 ：用CaO调试pH至4-5，产生硅酸钙沉垫，硅清掉率60%。 二次元中合 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，提高认识一个脚印沉垫其他硅，串并联用镁剂除砷。 超滤膜软件系统 ：0.02μm瓷器膜筛选微米级硅顆粒，通量比较稳定在80LMH。 MVR化掉器 ：浸提高盐废渣，心得出Na₂SO₄副新产品，水使用率超90%。 终极郊果 总硅从1500mg/L降低5mg/L下面的 砷水平从0.8mg/L减至0.01mg/L 装置无结渣正常运作超过了2年 去年回收并磷酸钠结晶约800吨